$ASML Je čínská DUV litografie skutečně hrozbou pro ASML?

V posledních dnech se hodně mluví o tom, že Čína začala s výrobou vlastních DUV litografických strojů. Na první pohled to může vypadat jako velký problém pro společnost ASML, ale při bližším pohledu je situace podstatně klidnější.

Podle dostupných informací chce Čína dodat pouze 5 DUV strojů v roce 2026 a přibližně 20 strojů v roce 2027.

Pro srovnání – samotné ASML ve 2. čtvrtletí 2026 dodalo 91 litografických systémů a společnost zároveň počítá s výrobní kapacitou přibližně 130 imerzních DUV strojů ročně, kterou chce v dalších letech ještě navyšovat.

Je také důležité si uvědomit rozdíl mezi DUV a EUV litografií. DUV stroje sice stále představují klíčovou technologii pro výrobu mnoha typů čipů, ale EUV litografie, kterou ASML jako jediná firma na světě komerčně dodává, je nezbytná pro výrobu těch nejmodernějších polovodičů. V této oblasti zatím Čína konkurenci nepředstavuje.

Z mého pohledu proto ve střednědobém horizontu nepředstavují čínské DUV stroje pro ASML zásadní ohrožení. Objem výroby je zatím velmi malý a technologická úroveň i spolehlivost těchto zařízení stále za ASML zaostává.

Na druhou stranu bych tuto zprávu úplně nepodceňoval. Z dlouhodobého hlediska může být rozvoj domácích čínských litografických strojů významným faktorem, protože postupně narušuje monopolní postavení ASML. Pokud bude Čína schopná technologii v dalších letech výrazně zlepšovat a navyšovat výrobu, může se z ní stát relevantní konkurent alespoň v segmentu DUV.

Pro investory je proto podle mě důležité sledovat především tempo technologického pokroku Číny, nikoliv samotný počet prvních vyrobených strojů. V tuto chvíli jde spíše o dlouhodobé strategické riziko než o bezprostřední ohrožení byznysu ASML.