Společnost ASML dnes reportovala své výsledky, které byly za mě solidní. $ASML je v mém portfoliu aktuálně největší pozice, jelikož je to skvělá a velmi kvalitní společnost, která má v tomto oboru monopol. Aktuálně už nepřikupuji, ale pokud dojde k poklesu, tak zase rád přikoupím.
Jaký máte názor na $ASML?
Osobní pohled člena komunity, ne investiční doporučení. Pravidla komunity
Závěr dám raději na začátek :D líbí se mi, že díky svému zaměření a patentům si dokázala firma vybudovat, těžce dosažitelnou, možná až nedosažitelnou pozici
$ASML jak už bylo zmíněno, je největším výrobcem litografických strojů (EUV technologie), která je klíčová pro výrobu nejpokročilejších polovodičových čipů s klíčovými zákazníky TSMC, Samsung a Intel. Tahle výhoda má i svojí nevýhodu. Např. významná expozice na Čínu (geopolitické riziko). Zaměřuje se pouze na jednu technologii a do ní investuje (tím je snížená diverzifikace firmy). EUV systémy jsou považovány za kritické technologie a jejich export podléhá přísným kontrolám.
Mezi hlavní „konkurenty“ v litografických strojích patří Nikon a Canon, ty se pohybují v segmentu deep ultraviolet (DUV) litografie a zaměřují se tak na „starší“ technologie
Jako alternativy bych viděl $LRCX - která se specializuje na vybavení, bez kterých nejdou dělat důležité kroky ve výrobním procesu polovodičů, společnost má globálních rozsah. $TEL - nabízí produkty a řešení pro různé kroky ve výrobním procesu polovodičů, Tokyo Electron má silnou přítomnost v Asii. $AMAT - má silnou pozici na trhu a je významným hráčem v oblasti polovodičového vybavení v oblasti vybavení pro zpracování polovodičů, (jedním z největších konkurentů Lam Research). $KLAC - je klíčový konkurent v oblasti metrologie a inspekce pro polovodiče, (jejich technologie doplňuje vybavení od Lam Research a Applied Materials).
Souhlas, jako největší riziko vnímám Čínu. Konkurenti mi jsou tak trochu jedno😂
Používáme nezbytné cookies pro fungování webu a volitelné analytické cookies pro měření návštěvnosti. Více v Zásadách ochrany osobních údajů.
